China inició la producción masiva de máquinas de litografía ultravioleta profunda (DUV) por inmersión desarrolladas internamente,con el objetivo de reducir su dependencia de tecnologías extranjeras para la fabricación de chips,en medio de las restricciones impuestas por Estados Unidos y países aliados,según información divulgada por Reuters.
La producción es realizada por Shanghai Aishengna Electronic Technology,una empresa estatal china creada en 2023 que incorporó equipos de compañías locales de litografía,entre ellas Yuliangsheng y Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).
Las máquinas DUV por inmersión se utilizan en la fabricación de distintos tipos de chips y son consideradas fundamentales para la industria de semiconductores. Actualmente,esta tecnología está dominada por la empresa neerlandesa ASML,la única compañía capaz de producir equipos de litografía ultravioleta extrema (EUV),esenciales para los chips más avanzados.
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A pesar del avance,China todavía está lejos de competir a escala comercial con los equipos de ASML. Según informó Reuters,las máquinas desarrolladas por Aishengna deberán pasar por más pruebas antes de alcanzar niveles similares de desempeño,confiabilidad y productividad exigidos para la fabricación de alto volumen. Lo cierto es que,esté lista o no,la iniciativa representa una alternativa tangible para reducir la vulnerabilidad de los fabricantes chinos de chips.
Según la información divulgada hasta el momento,las primeras máquinas chinas deberían ser entregadas a fabricantes como Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC),Hua Hong Semiconductor y ChangXin Memory Technologies (CXMT).
Incluso bajo restricciones,China continúa siendo un mercado relevante para ASML,representando cerca del 16% de las ventas netas de la compañía tan sólo en el primer semestre del año.
